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      名稱:控制儀和檢測器
    控制儀和檢測器
    獨特的Modelock1測量系統可提供一般“有源振蕩器”系統所不能得到的精確的晶體頻率信息,這個精確性與為鍍膜過程而設計的控制方法相結合,將為長的晶體壽命、低沉積速率和全沉積速率控制提供無比卓越的性能。
    Modelock有效地消除了“模式跳動”的缺點,將晶體振蕩保持在基本頻率上,在IC/5中,Modelock提供單次測量分辨率0.005A,即使每秒測量10次,這個精度意味著平衡的沉積速率控制,對低沉積速率過程尤為重要。
    IC/5膜層控制儀
    具有Modelock測量技術多用途的IC/5理想地適用于控制多源、多坩堝、多材料或多過程系統的膜層沉積速率和膜厚。IC/5可滿足即使最復雜。最高要求與特殊應用的需要。它擅長于過程控制、邏輯功能、程序和膜層儲存容量,過程數據管理,尤其是沉積速率與膜厚的控制。IC/5備有適配電纜,易于安裝至現有的裝置中。
    XTC/2膜層控制儀
    功能強,易使用
    用于不太復雜的過程要求,具有Modelock測量技術的XTC/2控制儀及經濟又節省空間。記錄儀輸出不僅記錄正常的沉積速率和膜厚值,還支持功率和沉積速率偏離的附加功能。
    XTC/C膜層控制儀
    建立您自己的接口
    對于OEM,科研或其它應用,如用戶愿意建立自己的接口,XTC/2膜層控制儀為您提供所需的基本技術,沒有面板顯示,沒有鍵盤。其性能與尺寸完全與XTC/2相同,而價格更低。額外的優點是:用戶軟件將完全按您要求的方式工作。
    XTM/2膜層監測器
    優越的性能和價格
    INFICON的XTM/2將Modelock技術的卓越測量速度與精度用于單一的監測器。價格只相當于常規的“有源振蕩器”。XTM/2的頻率精確度為0.1Hz/250毫秒。當置于16秒的均值時,準確地顯示小至0.01A的沉積速率分辨。儀器的卓越測量功能,使它適用于監測任何標準的薄膜真空鍍制過程,XTM/2易于配置為其它應用,如腐蝕和污染的研究。
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